气体沉积设备

气相沉积炉

左边一个200预加热炉，中间一个射频电源箱，右边一个滑轨主加热炉，底部配有低真空系统，四路质子流量控制系统及设备电源控制器。 PECVD（Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition）的概念及其原理：利用强电场或磁场使所需的气体源分子电离产生等离子体，等离子体中含有很多活性很高的化学基团这些基团经过经一系列化学和等离子体反应，在样品表面形成固态薄膜。其主要作用是在太阳能电池及硅晶片的表面镀一层SiN薄膜，这层薄膜可以减少太阳光的反射率，增加光电转换效率。它还具有良好的抗氧化和绝缘性能，同时具有良好的掩蔽金属和水离子扩散的能力，化学稳定性良好，除氢氟酸和热磷酸能缓慢腐蚀外，其他酸基本不起作用。

等离子箱

低真空控制

多面图

气路控制

前视图

射频电源控制

预加热炉

主加热炉